در پژوهش مشترک دانشگاه فناوری های نوین سبزوار و دانشگاه شهید بهشتی صورت گرفت:
تجزیه و تحلیل نانو سختی و نانو خراش لایه های نانو متری اپتیکی و فوق شفاف F:SiOx که به روش پلیمریزاسیون پلاسمایی پوشش داده شده است
در پژوهش دکتر مرضیه عباسی فیروزجاه، عضو هیأت علمی پردیس فناوری های نوین با همکاری دکتر بابک شکری، عضو هیأت علمی دانشگاه شهید بهشتی، لایه های اپتیکی نانومتری و فوق شفاف F:SiOx به روش پلیمریزاسیون پلاسمایی پوشش داده شده و ویژگی های نانو سختی و نانو خراش آنها مورد تجزیه و تحلیل قرار گرفته است.
محصول این پژوهش کاربردهای فراوانی در صنعت اپتیک، اپتوالکتریک و نانو الکتریک دارد.
در راستای این پژوهش بررسی مقاومت لایه ها در برابر شرایط محیطی سخت در شرکت الکترواپتیک و لیزر اصفهان (صاایران) صورت گرفت و کیفیت نمونه ها در آزمون مربوطه مورد تایید قرار گرفت.
گفتنی است این مقاله با درجه اعتبار Q1 در مجله معتبر علمی: Journal of Non-Crystallin Solids چاپ شده است.
برای دریافت مقاله بر روی لینک زیر کلیک کنید:
https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0022309320305226?dgcid=author